鉭靶材:
材質:純鉭
純度: ≥99.95%
美標.: RO5200,RO5400
標準: ASTM B708
形狀: 自定義
清晰度:0.1’’-2’’, 直徑r:2”-20”
直徑公差: + / - 0.008”
應用:鉭靶主要應用于半導體和磁記錄等薄膜濺射行業(yè)
再結晶:最少95%晶粒度:最小40μm表面粗糙度:Ra 0.8 最大平整度:0.1mm or 0.10% 最大
電話:18700702326
郵箱:Bjxbzr@yeah.net
地址:陜西省寶雞市高新開發(fā)區(qū)馬營鎮(zhèn)溫泉村溫泉工業(yè)園