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鉭靶材： 

材質：純鉭

純度: ≥99.95%

美標.: RO5200，RO5400

標準: ASTM B708

形狀:    自定義

清晰度:0.1’’-2’’, 直徑r:2”-20”

直徑公差: + / - 0.008”

應用：鉭靶主要應用于半導體和磁記錄等薄膜濺射行業(yè)

再結晶：最少95%
晶粒度：最小40μm
表面粗糙度：Ra 0.8 最大
平整度：0.1mm or 0.10% 最大